台湾地区修订化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表，自2014年2月1日生效

town21 · 发表于 2014-1-6 19:21

2013年12月31日，台湾地区“卫生福利部”发布部授食字第1021654135号令，修正“化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表”，自2014年2月1日生效。

化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表

编号	成分名称	限量及其它规定
1	Benzalkonium bromide and saccharinate	0.1%（以Benzalkonium chloride计）注意事项：使用时避免触及眼睛。
2	Benzoates	1.0%
3	Benzoic acid	0.2%
4	Benzyl alcohol	1.0%
5	Bromochlorophene (6,6-Dibromo-4,4-dichloro2,2-methylenediphenol)	0.1%
6	Cetylpyridinium chloride	1.0%
		使用于用后冲洗掉产品，限量：5.0%.
		使用于接触黏膜部位产品，限量：0.01%.
7	Chloramine T	0.1%
		使用于用后冲洗掉产品，限量：0.3%.
8	Chlorhexidine	0.05%
		使用于用后冲洗掉产品，限量：0.1%.
9	Chlorhexidine hydrochloride	0.1%
		使用于接触黏膜部位产品，限量：0.001%.
10	Chlorobutanol	0.1% （不得使用于喷雾类的产品）
11	Chlorocresol	0.5%
12	Chlorophene (2-Benzyl-4-chlorophenol)	0.2%
13	Chlorphenesin (3-(p-chlorophenoxy)-propane-1,2 diol)	0.3%
14	Dehydroacetic acid and its salts	0.5%
15	Dichlorobenzyl alcohol (2,4-Dichlorobenzene methanol)	0.15%
16	Dimethyl oxazolidine (4,4-dimethyl-1,3-oxazolidine)	0.1%
17	Dimethylaminostyryl heptyl methyl thiazolium iodide (2-(p-Dimethylaminostyryl)-3-heptyl-4-methylthiazorium iodide)	0.0015% （不得使用于接触黏膜部位产品）
18	7-Ethylbicyclooxazolidine (5-Ethyl-3,7-dioxa-1-azabicyclo[ 3.3.0 ]octane)	0.3% （不得使用于接触黏膜部位产品）
19	Glutaral (Glutaraldehyde 1,5-Pentanedial)	0.1% （不得使用于喷雾类的产品）
20	Hexamidine and its salts5 z+ {8 {- c' W; V: H (including isethionate and p-hydroxybenzoate) (1,6-Di(4-amidinophenoxy)-n-hexane)	0.1%
21	Hexetidine	0.1%
22	Isopropyl cresols (4-Isopropyl-m-cresol)	0.1%
23	Methyldibromo glutaronitrile (1,2-Dibromo-2,4-dicyanobutane)	0.1% （限使用于用后冲洗掉产品）
24	Methylisothiazolinone	0.01% （不得使用于接触黏膜部位产品）注意事项：长期与皮肤接触可能造成过敏性皮肤炎。避免接触黏膜部位。
25	Mixture of 5-Chloro-2-methyl-isothiazol-3(2H)-one and 2-Methylisothiazol-3(2H)-one with magnesium chloride and magensium nitrate	0.0015% 注意事项：长期与皮肤接触可能造成过敏性皮肤炎。避免接触黏膜部位。
		使用于用后冲洗掉产品，限量：0.1% 注意事项：长期与皮肤接触可能造成过敏性皮肤炎。避免接触黏膜部位。

town21 · 发表于 2014-1-6 19:21

26	o-Phenylphenol and its salts (Biphenyl-2-ol)	0.3%
27	Parahydroxybenzoic acid ester	1.0%（总量）
28	p-Chloro-m-cresol (4-Chloro-m-cresol)	0.5% （不得使用于接触黏膜部位产品）
29	p-Chlorophenol (4-Hydroxychlorobenzene)	0.25%
30	Phenol	0.1%
31	Phenoxyisopropanol (1-Phenoxypropan-2-ol)	1.0% （限使用于用后冲洗掉产品）
32	Propionic acid and its salts (Methylacetic acid)	2.0% （以acid 计）
33	Resorcin	0.1%
34	Salicylates	1.0%
35	Salicylic acid	0.2%
36	Sorbic acid and its salts	0.5%
37	Thianthol	0.8%
38	Undecylenic acid and its salts (Undecenoic acid)	0.2% （以acid 计）
39	DMDM Hydantoin	0.6%
40	Imidazolidinyl urea	0.6%	化妆品中使用此类成分作为防腐剂时，其总释出的Free Formaldehyde 量，不得超过 1,000 ppm.
41	Quaternium 15 (Methenamine 3-chloroallylochloride)	0.2%
42	Benzylhemiformal	0.15% （限使用于用后冲洗掉产品）
43	5-Bromo-5-nitro-1,3-dioxane	0.1% （限使用于用后冲洗掉产品；避免Nitrosamines 形成）
44	Bronopol (2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol)	0.1% （避免Nitrosamines 形成）
45	Methenamine (Hexamethylenetetramine)	0.15%
46	Sodium Hydroxymethylglycinate (Sodium hydroxymethylamino acetate)	0.5%
47	Diazolidinyl urea (N-(Hydroxymethyl)-N- (dihydroxymethyl-1,3-dioxo-2,5-imidazolidinyl-4-)-N'-(hydroxymethyl) urea)	0.5%

※限量：系指该防腐剂成分在化妆品成品中的最高允许使用含量。

厦门WTO工作站编

2014.1.3

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