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标题: LED芯片分类 [打印本页]

作者: szbn988    时间: 2009-5-5 16:56
标题: LED芯片分类
1.MB芯片定义与特点
1 C" G9 @9 F& T% c3 m1 o: B
/ m8 T/ a8 X' c定义﹕" i7 |! m' n, u  U$ T4 b+ d1 Z: }
       MB 芯片﹕Metal Bonding (金属粘着)芯片﹔该芯片属于UEC 的专利产品
  Q' u8 O; V3 R  r( n1 n; [1 c5 j- ?. H  T- n, e# a; q
特点﹕
* p( B% B0 B8 L  N, A6 v, V     1、 采用高散热系数的材料---Si  作为衬底﹐散热容易.
- c6 K% Y5 F3 `. q' E( ?* C9 B! ]: w: q, @) A  d
Thermal Conductivity0 e+ }+ O: i4 U: ~
GaAs: 46 W/m-K2 N7 _: q/ N8 ]" @
GaP: 77 W/m-K
, {& M0 P0 m& g( n6 t: |: S% `/ iSi: 125 ~ 150 W/m-K, \7 {3 |+ B% q: Z+ s
Cupper:300~400 W/m-k! [) {# z- ?+ S* }  n: H
SiC: 490 W/m-K9 |, I" J) @. T6 `
3 t' e- t9 }0 g
     2、通过金属层来接合(wafer bonding)磊晶层和衬底,同时反射光子,避免衬底的吸收.
7 [. v4 \- w" D) m( [     3、导电的Si 衬底取代GaAs 衬底,具备良好的热传导能力(导热系数相差3~4   倍),更适应于高驱动电流领域。: y0 w+ [9 a8 X9 H  D% k
     4、底部金属反射层﹐有利于光度的提升及散热
' d5 \2 v6 _# ]/ L( A     5、尺寸可加大﹐应用于High power 领域﹐eg : 42mil MB
4 d+ k: j( s* O  I3 h' E
5 H! [, C: b- r* @/ J2.GB芯片定义和特点
& E2 i, h  M4 E& q0 B3 d1 ]3 l) |' B& X; O8 R( v
定义﹕
2 R& d" O/ s# Q, L- k8 e( X) H       GB 芯片﹕Glue Bonding (粘着结合)芯片﹔该芯片属于UEC 的专利产品
! `5 b8 X) ^+ M' H) ?2 ]) [; o特点﹕
% M# A& C% [* @# I3 t4 U/ M+ P0 T         1﹕透明的蓝宝石衬底取代吸光的GaAs衬底﹐其出光功率是传统AS (Absorbable structure)芯片的2倍以上﹐蓝宝石衬底类似TS芯片的GaP衬底.
3 i# M& F9 _+ ~         2﹕芯片四面发光﹐具有出色的Pattern图
/ _* x9 l8 k) k9 v         3﹕亮度方面﹐其整体亮度已超过TS芯片的水平(8.6mil)7 w5 I, z) F+ f+ z1 Z/ F
         4﹕双电极结构﹐其耐高电流方面要稍差于TS单电极芯片/ H$ u: J# o5 Z) U! _$ S+ B
: I' z( e% l1 F3 q9 C( V
3.TS芯片定义和特点
9 r8 l9 j3 E- a8 [0 g- B0 W8 M5 ?. o* a$ ^8 x- h
定义﹕
" h& _& ^4 d* {9 }- P       TS 芯片﹕ transparent structure(透明衬底)芯片﹐该芯片属于HP 的专利产品。+ b) ?/ _5 x; D' g: R* S
9 \7 s8 d' i' L/ g
特点﹕
$ M" r  h: z1 Z5 s* v    1.芯片工艺制作复杂﹐远高于AS LED
- Z* r' s3 Q: G* ^1 x/ ~$ w/ [/ {    2. 信赖性卓越# o* I! ~) u/ Y3 |+ s
    3.透明的GaP衬底﹐不吸收光﹐亮度高
6 q! w. T: b" F9 O% d9 {    4.应用广泛8 f; j& r: E7 Q

7 Z! e7 T% \& _8 z$ D( q: b* n4.AS芯片定义与特点* Q- o( K. i/ e0 @5 B2 Z

- L$ x9 ]' P6 s4 K7 z& w' ]定义﹕
: o* U9 D: T) ?: U2 S       AS 芯片﹕Absorbable structure  (吸收衬底)芯片﹔经过近四十年的发展努力﹐台湾LED光电业界对于该类型芯片的研发﹑生产﹑销售处于成熟的阶段﹐各大公司在此方面的研发水平基本处于同一水平﹐差距不大.
% P0 i$ Z8 g  d" \9 l; `8 T      大陆芯片制造业起步较晚﹐其亮度及可靠度与台湾业界还有一定的差距﹐在这里我们所谈的AS芯片﹐特指UEC的AS芯片﹐eg: 712SOL-VR, 709SOL-VR, 712SYM-VR,709SYM-VR 等
6 N; J' l7 [2 K, {6 ]! c- i' B
) ^2 z& j, J& K& q特点﹕. b0 e0 t3 y5 ?) E
    1. 四元芯片﹐采用 MOVPE工艺制备﹐亮度相对于常规芯片要亮& P$ l/ Z  x4 y
    2. 信赖性优良8 R* `) j" _, H1 \. O) E, }$ x3 G
    3. 应用广泛
3 n% ~5 n7 }  x6 y/ B- `+ s, }, C& k7 [9 k7 F* L
发光二极管芯片材料磊晶种类
$ E# T0 k; G" p/ W
( k; d2 k# ]* W- T: g3 l! D1、LPE:Liquid Phase Epitaxy(液相磊晶法) GaP/GaP, L' n, T+ j  X9 M& G
8 P, {0 g1 k* O% ~2 ^. |! d! y
2 、VPE:Vapor Phase Epitaxy(气相磊晶法) GaAsP/GaAs+ a: G7 e4 S2 w* m
0 L- j+ n& u$ u9 q6 [* N1 e. i
3 、MOVPE:Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (有机金属气相磊晶法) AlGaInP、GaN/ Q( H4 ?( A2 X( w5 {
! D' D* K$ N" f8 @2 d9 e, N# @
4 、SH:GaAlAs/GaAs Single Heterostructure(单异型结构)GaAlAs/GaAs! a7 u# H! g5 D% Q, r8 d& l' F' @

2 Q& t+ ~" m7 B, W8 X5 、DH:GaAlAs/GaAs Double Heterostructure, (双异型结构) GaAlAs/GaAs
: G4 }5 l- E& ~
# b; N0 u* \# l5 L. G6、 DDH:GaAlAs/GaAlAs Double Heterostructure,  (双异型结构) GaAlAs/GaAlAs




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