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标题: 台湾地区修订化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表，自2014年2月1日生效 [打印本页]
作者: town21    时间: 2014-1-6 19:21
标题: 台湾地区修订化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表，自2014年2月1日生效
2013年12月31日，台湾地区“卫生福利部”发布部授食字第1021654135号令，修正“化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表”，自2014年2月1日生效。
化妆品中防腐剂成分使用及限量规定基准表
编号
成分名称
限量及其它规定
1
Benzalkonium bromide and saccharinate
0.1%（以Benzalkonium chloride计）
注意事项：使用时避免触及眼睛。
2
Benzoates
1.0%
3
Benzoic acid
0.2%
4
Benzyl alcohol
1.0%
5
Bromochlorophene
(6,6-Dibromo-4,4-dichloro2,2-methylenediphenol)
0.1%
6
Cetylpyridinium chloride
1.0%
使用于用后冲洗掉产品，限量：5.0%.
使用于接触黏膜部位产品，限量：0.01%.
7
Chloramine T
0.1%
使用于用后冲洗掉产品，限量：0.3%.
8
Chlorhexidine
0.05%
使用于用后冲洗掉产品，限量：0.1%.
9
Chlorhexidine hydrochloride
0.1%
使用于接触黏膜部位产品，限量：0.001%.
10
Chlorobutanol
0.1%
（不得使用于喷雾类的产品）
11
Chlorocresol
0.5%
12
Chlorophene
(2-Benzyl-4-chlorophenol)
0.2%
13
Chlorphenesin
(3-(p-chlorophenoxy)-propane-1,2 diol)
0.3%
14
Dehydroacetic acid and its salts
0.5%
15
Dichlorobenzyl alcohol
(2,4-Dichlorobenzene methanol)
0.15%
16
Dimethyl oxazolidine
(4,4-dimethyl-1,3-oxazolidine)
0.1%
17
Dimethylaminostyryl heptyl methyl thiazolium iodide
(2-(p-Dimethylaminostyryl)-3-heptyl-4-methylthiazorium iodide)
0.0015%
（不得使用于接触黏膜部位产品）
18
7-Ethylbicyclooxazolidine
(5-Ethyl-3,7-dioxa-1-azabicyclo[ 3.3.0 ]octane)
0.3%
（不得使用于接触黏膜部位产品）
19
Glutaral
(Glutaraldehyde 1,5-Pentanedial)
0.1%
（不得使用于喷雾类的产品）
20
Hexamidine and its salts
! S6 @0 Z* }) f/ ?, F(including isethionate and p-hydroxybenzoate)
(1,6-Di(4-amidinophenoxy)-n-hexane)
0.1%
21
Hexetidine
0.1%
22
Isopropyl cresols
(4-Isopropyl-m-cresol)
0.1%
23
Methyldibromo glutaronitrile
(1,2-Dibromo-2,4-dicyanobutane)
0.1%
（限使用于用后冲洗掉产品）
24
Methylisothiazolinone
0.01%
（不得使用于接触黏膜部位产品）
注意事项：长期与皮肤接触可能造成过敏性皮肤炎。避免接触黏膜部位。
25
Mixture of 5-Chloro-2-methyl-isothiazol-3(2H)-one and 2-Methylisothiazol-3(2H)-one with magnesium chloride and magensium nitrate
0.0015%
注意事项：长期与皮肤接触可能造成过敏性皮肤炎。避免接触黏膜部位。
使用于用后冲洗掉产品，限量：0.1%
注意事项：长期与皮肤接触可能造成过敏性皮肤炎。避免接触黏膜部位。
作者: town21    时间: 2014-1-6 19:21
26
o-Phenylphenol and its salts
(Biphenyl-2-ol)
0.3%
27
Parahydroxybenzoic acid ester
1.0%（总量）
28
p-Chloro-m-cresol
(4-Chloro-m-cresol)
0.5%
（不得使用于接触黏膜部位产品）
29
p-Chlorophenol
(4-Hydroxychlorobenzene)
0.25%
30
Phenol
0.1%
31
Phenoxyisopropanol
(1-Phenoxypropan-2-ol)
1.0%
（限使用于用后冲洗掉产品）
32
Propionic acid and its salts
(Methylacetic acid)
2.0%
（以acid 计）
33
Resorcin
0.1%
34
Salicylates
1.0%
35
Salicylic acid
0.2%
36
Sorbic acid and its salts
0.5%
37
Thianthol
0.8%
38
Undecylenic acid and its salts
(Undecenoic acid)
0.2%
（以acid 计）
39
DMDM Hydantoin
0.6%
40
Imidazolidinyl urea
0.6%
化妆品中使用此类成分作为防腐剂时，其总释出的Free
Formaldehyde
量，不得超过
1,000 ppm.
41
Quaternium 15
(Methenamine 3-chloroallylochloride)
0.2%
42
Benzylhemiformal
0.15%
（限使用于用后冲洗掉产品）
43
5-Bromo-5-nitro-1,3-dioxane
0.1%
（限使用于用后冲洗掉产品；避免Nitrosamines 形成）
44
Bronopol
(2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol)
0.1%
（避免Nitrosamines 形成）
45
Methenamine
(Hexamethylenetetramine)
0.15%
46
Sodium Hydroxymethylglycinate
(Sodium hydroxymethylamino acetate)
0.5%
47
Diazolidinyl urea
(N-(Hydroxymethyl)-N- (dihydroxymethyl-1,3-dioxo-2,5-imidazolidinyl-4-)-N'-(hydroxymethyl) urea)
0.5%
※限量：系指该防腐剂成分在化妆品成品中的最高允许使用含量。
厦门WTO工作站编
2014.1.3




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